半導体洗浄に必要とされる
最先端の超純水技術をフィードバック。
ピューリックωは半導体洗浄用超純水精製技術をもとに開発しました。
常に最先端の超純水技術を追い求める姿勢と
半導体業界シェアトップクラスの実績を誇る
オルガノのテクノロジーが生きています。
超純水プラントでは常に最高水質を維持する必要があるため（二次）超純水装置では連続循環運転が「常識」です。
ピューリックωもこのコンセプトを踏襲し、連続循環運転を実装しています。
ピューリックωではこのような技術を駆使し今までのラボ用超純水の水質レベルを超える超純水を得ることができます。
| 元素 | ラボ用超純水 （従来品） |
ピューリックω |
|---|---|---|
| ナトリウム | 0.5 | < 0.1 |
| カリウム | 0.3 | < 0.1 |
| カルシウム | 0.4 | < 0.1 |
| マグネシウム | 0.3 | < 0.1 |
| 亜鉛 | 0.9 | < 0.1 |
これまでの超純水製造装置には用いられていなかった、2重フロー。
最高水質の超純水を１滴から２L/minまで自在にコントロール。
ピューリックωのイオン交換樹脂は、半導体グレードを使用しています。
連続採水を行っても水質変化は無く、常に最高水質の超純水。
最先端で、日本トップクラスの有識者が認めたピューリックω。
彼らの言葉が日本の「超超純水」を創っていく。
